假新闻,都是金融机构放出来的消息,目的就是哄抬股票价格,他们已经布局了,就等韭菜接盘他们好出货。 以后这类新闻不要信,券商有很多写手,专门干这种事情,他们趁低买进,

怎么看待“中国芯片获得重大突破,华为或迎来转机”呢?

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假新闻,都是金融机构放出来的消息,目的就是哄抬股票价格,他们已经布局了,就等韭菜接盘他们好出货。

以后这类新闻不要信,券商有很多写手,专门干这种事情,他们趁低买进,进货完成后,潜伏一段时间,然后满网散步利好消息

,“聪明的韭菜”就以迅雷不及掩耳盗铃之势买进股票,券商也开始操盘,逐步拉高股价直至涨停,这时候,写手还会继续放出利好消息,各路荐股师也开始吹捧,股民脑子一热,第二天蜂涌买入,连续几天涨停板,而这时,券商开始慢慢卖出手里的股票直至卖空。伺机寻找下一个目标。

然后韭菜们站在高高的山岗上,风景一片独好!

国家这么重视,中国芯片获

得重大突破是必然的,时间长短而已

中芯国际在N+1工艺上有了新的突破,据说可以生产7纳米芯片。即使是真的对于华为也不意味着转机。

中芯目前也在美国制裁名单里,最新的EUV光刻机看来是没戏了,虽然有了突破也是要运用ASML的光刻机,这里面有美国技术,所以中芯的技术突破依然在美国禁令之内帮不了华为。

华为的转机就是国产光刻机研制成功,除此以外只能依赖中国市场的力量给予美国的制裁一记闪亮耳光,否则没有转机。

国产光刻机暂时没戏,国内人才不足,水平一时半会也没办法提高,还需要从国外引进。那么唯一的办法就是要靠中国国内市场给予国外同类产品阻击方能寻得美国方面的让步甚至解除封锁。

由于从中美大局考虑,政府不可能阻止美国的芯片进口,随着华为的淡出,因此美国芯片垄断中国市场的局面将重新出现。

在电脑市场由于联想没有作为,中国电脑市场基本都是被美国芯片垄断,英特尔、英伟达以及AMD等公司产品在中国人口中如数家珍。

移动平台除了华为的麒麟,其它公司都默默无闻地为美国高通打工,能够抗衡高通的还是美国公司--苹果。那些叫嚷抵制苹果的人实际上也非常无聊,国内厂家都是高通阵营里的伪军,老百姓希望通

过支持伪军来打败皇军是十分可笑的。

总之,国产光刻机如果成功也与美国技术有很大差距,但总比没有强,虽然很土,但至少还能打一下游击战,在局部集中优势兵力说不定也能搞出一场平型关大捷。技术再土、水平再次,中国人也不能投降,虽然中国喷子比较多看不起国产,但也不能放弃汉阳造。与美国的科技战必然是你打你的原子弹,我打我的手榴弹,没有经历过朝鲜战争小米加步枪的痛苦厮杀何来和平环境搞两弹一星?当年要依靠钱学森等留学生从美国回来搞,现在也一样,并非本国学生笨,确实是人家科研条件好、体制好、水平高,他们走在前面,你必须追,否则永远也追不上人家,如果那样,迟早有一天中国人将再次成为亡国奴。

不是的,虽说中芯国际突破了N+1工艺技术,但依然使用的是ASML的浸没式DUV光刻机,还依然受到美国的限制。毕竟现阶段国产光刻机还仍然停留在步进扫描式,且最小工工艺制程节点为90纳米,根本无法实现N+1工艺的。不过,国产浸没式DUV光刻机将于2021年交付使用,等到彻底成熟之后,中

芯国际就不在受制于美国了,而中国芯面临的情况也将得到改善。那时,HW才可以得到帮助。

而对于HW来说,即便是使用中芯国际的N+1技术制造出来麒麟的芯片,也与高通骁龙系列,苹果A系列存在差距。现如今,高通骁龙875和苹果A14处理器都使用的是5纳米工艺制程。那么下一代芯片的工艺制程要么保持5纳米不变,要么突破到3纳米。所以说,到那时使用N+1技术或者N+2技术制造的麒麟处理器,在工艺制程,散热,功耗,频率上还会与高通骁龙和苹果A系列存在差距。

制程工艺制约芯片的性能。制程工艺越小,就可以在相同面积的芯片上集成更多的晶体管,也就导致芯片的功耗越低,散热越少,频率越高,根本上还是让产品在宣传上有的噱头。现如今,好多厂家在宣传手机产品时,往往占用较多的时间去宣传处理器性能的提升。在竞争对手使用3纳米制程工艺的芯片时,如果HW手机使用的是N+1制程工艺的芯片,那么消费者会买账吗?

毕竟要有选择性买手机的话,那消费者花同样的钱,肯定会选择性能优秀的产品,毕竟不是每个人都十分的富有,可以无视价格只买喜欢的产品。那么,问题就来了,同样的钱是买性能强的手机还是稍弱点的手机呢?这样一来,HW产品的竞争力就不如友商了,所以说,即便是中芯国际搞定了N+1或者N+2技术,那对HW来说帮助也是有限的,并不能让其高端品牌的手机有较大的竞争力,或者中低端的产品还可以继续发布。

想要彻底摆脱制约,还得依靠国产光刻机。目前来看,国产光刻机最小的工艺制程是90纳米,也就是由上海微电子制造的SSA600/20,在2018年通过验收。使用该光刻机是无法达到N+1制程工艺的,毕竟差距太大了,不是通过多次曝光就行的。而浸没式的DUV光刻机就可以,毕竟其工艺制程节点达到了22纳米,经过多次曝光就可以实现7纳米工艺制程,台积电就是用浸没式DUV光刻机实现了7纳米工艺制程。

而国产浸没式DUV光刻机将在2021年交付使用,之后还要等到成熟才可以批量制造芯片。在此之前,中芯国际还是会收到美国影响的,毕竟ASML的光刻机的零件中25%都是由美国相关公司制造的。也只有等到国产浸没式DUV光刻机使用之后,中芯国际才可以摆脱美国的影响,将芯片的流程彻底实现国产化。

谢邀。

虽然仅仅是突破,但是,时间已经再一次说明:西方国家,尤其是美国只要在中国前进的道路上设一次障碍

,中国就会跳越前进。毛泽东曾说过:雄关漫道真如铁,而今迈步从头越!这句话,浓缩了中华文化的世界难以匹敌,证实了中国人的坚强信念举世无双。更加上中国现在是由世界上最负责任的中国共产党领导,中国实行的是世界上最先进的社会制度。岂是西方国家尤其是美帝的制裁,卡脖子能难为得了的,等着我们国家的超越吧!

天天有突破,日日有更新!
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